특허청 기술경찰·대전지검 수사결과
웨이퍼 연마 자료… 中 업체로 이직도

반도체 공정 소재 국가핵심기술 등 중국 유출 범행 개요. 특허청 제공
반도체 제조 공정 핵심기술을 중국으로 유출한 대기업·중견기업 3곳의 전·현직 직원 6명이 정보·사법기관 공조로 적발됐다. 기술이 유출된 3개 회사는 반도체 웨이퍼 연마(CMP) 관련 반도체 공정 소재를 제조하거나 메모리 반도체를 제조하는 코스피·코스닥 상장사로, 시가총액 합계가 66조 원에 이른다.
특허청 기술디자인특별사법경찰(기술경찰)과 대전지검은 CMP 관련 기술을 중국에 유출한 혐의(산업기술보호법·부정경쟁방지법 위반)로 A(55)씨 등 3명을 구속기소하고, 3명을 불구속 기소했다고 26일 밝혔다.
A씨 등은 컴퓨터와 업무용 휴대폰으로 회사 내부망에 접속해 반도체 웨이퍼 연마 공정도 등 회사 기밀자료를 열람하면서 개인 휴대폰으로 사진 촬영하는 수법으로 자료를 유출한 혐의를 받고 있다.
유출한 자료에는 대기업과 계열사 반도체 웨이퍼 연마제 및 연마패드 관련 첨단기술과 영업비밀, 중견기업의 웨이퍼 연마 공정 관련 핵심기술이자 영업비밀이 포함돼 있었다.
A씨는 2018년 임원 승진에서 탈락하자 이듬해 6월 중국 업체와 웨이퍼 연마제 제조업을 같이 하기로 약정했다. 그는 회사에 계속 근무하면서 메신저 등으로 중국 내 연마제 생산설비 구축·사업을 관리했다.
A씨는 회사 계열사와 반도체 중견기업 연구원인 B(52·구속)·C(42·구속)·D(35·불구속)씨 등 3명을 부사장과 팀장, 팀원으로 스카우트해 중국으로 이직시켰다. 자신도 2020년 5월부터는 중국 업체 사장급으로 이직했다.
기술경찰은 지난해 3월 국정원 산업기밀보호센터로부터 중국 업체로 이직한 연구원 C씨와 D씨에 대한 첩보를 받아 수사에 나섰다. 신종 코로나바이러스 감염증(코로나19) 방역이 완화되면서 중국에 체류하던 C씨 등이 일시 귀국하자 공항경찰 및 국정원과 공조해 소재지를 급습해 증거를 확보했다. 기술경찰은 공범 4명이 더 있다는 사실을 확인해 추가 수사를 통해 일당 6명을 검찰에 기소의견으로 송치했다.
피해기업 3곳 가운데 규모가 가장 작은 기업은 이번 기술 유출로 연구개발비 등 1,000억 원 이상의 경제적 피해가 발생했다. A씨가 근무했던 회사는 유출된 자료가 중국에서 활용되기 전에 A씨가 구속되면서 추가적인 경제적 피해를 차단할 수 있었다.
김시형 특허청 산업재산보호협력국장은 "기술패권 경쟁 시대에는 기술력이 국력"이라며 "기술경찰의 역할을 강화해 국가 핵심기술을 지켜내는 데 앞장서겠다"고 말했다.
기사 URL이 복사되었습니다.
댓글0