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우수특허대상 특집-기계분야/극저온 이산화탄소 세정기/케이씨텍
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우수특허대상 특집-기계분야/극저온 이산화탄소 세정기/케이씨텍

입력
2003.07.21 00:00
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반도체 및 평판표시장치(FPD) 종합장비업체인 (주)케이씨텍(www.kctech.co.kr 대표 고석태)은 세계최초로 극저온 이산화탄소 세정장비를 개발해 지난해 실용화에 성공했다.극저온 이산화탄소를 이용한 세정기술은 기존 화학적 세정기술에 비해 유해폐기물이 전혀 발생하지 않으며, 세정속도도 획기적으로 단축되며 세정표면에 손상을 주지 않는다. 이에 따라 반도체 및 액정디스플레이(LCD) 제조업체들은 불량 감소에 따른 생산성 향상은 물론 환경보존에 큰 도움을 받고 있다. 또 그 적용범위가 반도체·LCD산업 뿐 아니라 표면세정이 필요한 모든 산업에 적용될 수 있어 성장 가능성도 무한하다고 평가되고 있다. 케이씨텍은 극저온 이산화탄소 세정기술을 1998년 7월부터 본격적으로 개발에 나서 그 동안 이 분야에 11건의 국내외 특허출원을 완료했다. (031)670-8142

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