【북경 AFP=연합】 미국과 중국의 고위 협상대표들은 7일 양국의 지적재산권 분쟁과 관련, 내주 중에 「공식적인」 협의를 갖기로 합의했다.양측은 그러나 6일에 이어 이틀째 열린 비공식 회담에서는 지재권분쟁을 마감할 수 있는 즉각적인 해결책을 마련하는데 실패했다.
북경(베이징)의 미대사관은 성명을 통해 『이번 비공식 회담에서 다음주중에 공식협의를 시작할 수 있는 유용한 기반을 제공하는 솔직한 토론이 이뤄졌다』며 양측의 회담이 공식수준으로 격상될 것임을 시사했다.
기사 URL이 복사되었습니다.
댓글0