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삼성전자 전 상무까지 노린 중국 기술유출... 그러나 걸려도 10%만 실형
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삼성전자 전 상무까지 노린 중국 기술유출... 그러나 걸려도 10%만 실형

입력
2024.09.11 08:30
수정
2024.09.11 08:41
1면
0 0

[20나노 기술유출이 업계에 남긴 상처]
중국 청두시와 합작해 현지 업체 창업 후
국내 인력·700개 공정 세부사항 빼돌려
1년 만에 복제 성공...피해 4.3조 원 추산
업계 "솜방망이 처벌 일반적...엄벌 필요"

서울 서초구 삼성전자 서초사옥 앞을 한 직원이 지나가고 있다. 연합뉴스

서울 서초구 삼성전자 서초사옥 앞을 한 직원이 지나가고 있다. 연합뉴스

수조 원 개발 비용이 투입된 핵심 반도체 기술을 중국으로 빼돌린 주범 2명이 체포됐다. 삼성전자·하이닉스에서 임원을 지낸 'D램의 달인'이 주동한 이번 기술유출 사건은 ①국내 반도체 '빅2'에 몸담았던 업계 권위자가 ②외국 정부와 결탁해 ③현지에 회사까지 차린 뒤 ④한국이 세계 최초로 상용화에 성공한 기술을 사실상 통째로 넘기는 등 범행 규모가 컸다. 주범들은 업계 내 권위를 이용해 반도체 핵심 인력들과 접촉해 중국 회사로 영입하고, 기술을 뽑아낸 뒤 토사구팽하며 1년 만에 제품 양산 직전까지 빠르게 일을 진행했다.

중국의 스파이로 전락한 퇴직 임원

조광현 안보수사지원과장이 10일 오후 서울 종로구 사직로 서울경찰청 회의실에서 국가핵심 반도체 기술 유출사건 관련 브리핑을 하고 있다. 뉴스1

조광현 안보수사지원과장이 10일 오후 서울 종로구 사직로 서울경찰청 회의실에서 국가핵심 반도체 기술 유출사건 관련 브리핑을 하고 있다. 뉴스1

10일 서울경찰청 산업기술안보수사대는 삼성전자 반도체 기술을 중국에 넘긴 전 임원 출신 2명을 부정경쟁방지법 위반 등 혐의로 구속 송치했다고 밝혔다. 이들은 삼성전자의 20나노급 D램 메모리 반도체 생산에 필요한 온도와 압력 등 700여 단계 공정 정보를 유출한 혐의를 받는다.

이번 사건은 통상 일선 엔지니어가 해외로 이직하는 수준이었던 기술 유출이 고위 임원급에서 발생했다는 점에서 충격을 주고 있다. 주범 최모(66)씨는 삼성전자와 하이닉스 반도체에서 각각 상무와 부사장을 지낸 고위급 인사였다. 함께 송치된 주범 오모(60)씨도 삼성전자 D램 메모리 수석연구원 출신이다.

퇴직 후 반도체 컨설팅 업체를 운영하던 최씨는 중국에 반도체 회사를 짓는 프로젝트가 무산되자, 2020년 청두시 정부와 합작해 청두가오전 하이테크놀로지(CHJS)라는 제조업체를 직접 만들었다. 청두시로부터 4,600억 원 이상을 투자받는 대가는 인력·기술을 제공하는 것. 최씨는 자신의 인맥과 명성을 이용해 국내 반도체 핵심인력들에게 접촉해 영입했다. 이때 오씨도 국가핵심기술인 삼성전자의 20나노급 D램 반도체 핵심 공정을 청두가오전에 넘기고, 공정설계실장으로 일하며 범행에 적극 가담했다. 그러나 많은 직원들이 첨단 기술을 제공하고 2, 3년 만에 장기 휴직처리되는 등 토사구팽당했다. 현재 경찰은 송치된 주범 2명 외에도 기술 유출과 관련된 임직원 30여 명을 입건해 수사 중이다.

업계 "엄정한 처벌 필요"

삼성전자의 D램 공정 미세화 발전사. 그래픽=신동준 기자

삼성전자의 D램 공정 미세화 발전사. 그래픽=신동준 기자

경찰은 이들이 사실상 국내 D램 반도체 기술을 통째로 중국에 넘긴 것이나 마찬가지라고 봤다. 최씨 등은 반도체 제작과정 중 제품화(패키징) 이전 생산공정에 대한 공정종합절차서(PRP)와 최종목표규격(MTS)을 유출한 것으로 파악됐다. PRP는 공정 순서나 단계별 중요 조건 및 설비 정보를 망라한 자료이고, MTS는 D램을 구성하는 부품 모듈, 깊이, 간격 등 세부 수치를 의미한다.

비록 삼성전자가 이미 12나노 D램을 양산 중이지만, 여전히 삼성전자의 매출 2조4,000억 원(2022년)이 이 20나노 공정에서 나오고 있다. 삼성전자는 20나노 공정 개발에 약 2조 원의 비용과 최소 1,000여 명의 연구 인력을 투입한 것으로 알려졌는데, 이를 당시 메모리 양산 기술 경쟁력이 없던 중국이 꿀꺽한 셈이 된다.

이를 통해 청두가오전은 2021년 1월 반도체 D램 연구 및 제조공장 건설에 착수해, 같은 해 12월에 준공했다. 그리고 불과 1년 3개월 만인 2022년 4월 자사의 기술이 실제 반도체로 기능할 수 있는지 측정해보는 기초 개발제품 시범 웨이퍼(반도체 원판) 생산 수준에 진입했다. 일반적으로 새로운 세대의 D램 반도체를 개발하기까지 최소 4, 5년이 걸리지만, 중국은 기술을 훔쳐 1년여 만에 다음 세대 제품 개발에 성공했다. 지난해 6월 경찰 수사로 공장 운영이 중단되기 전까지 청두가오전은 양산 단계 직전까지 갔다.

피해 규모도 천문학적이다. 개발 비용을 따져봤을 때, 유출된 기술의 경제적 가치는 약 4조3,000억 원에 이르며, 경제 효과를 감안하면 그 금액은 이보다 클 것으로 보인다. 다만 경찰 관계자는 "유출된 기술로 수익 창출까진 이어지지 않았다"며 "다각도로 모니터링한 결과, 해당 기술이 중국이나 외국 기업에 넘어간 사실은 확인된 바 없다"고 밝혔다.

업계에서는 기술 유출 처벌이 솜방망이에 그치는 점이 문제라고 지적한다. 실제 2019년부터 2022년까지 선고된 기술유출 사건 중 실형은 10.6%에 불과하다. 한 반도체 업계 관계자는 "강한 처벌에 따른 예방효과를 위해서라도 엄정한 대처가 필요하다"면서 "향후 피의자를 어디까지 확대해 수사할지와 그 처벌 수위가 관건이 될 것"이라고 지적했다.

이유진 기자
이윤주 기자

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