최태원 SK그룹 회장이 1일 경기도 이천 SK하이닉스 본사에서 열린 M16 준공식에서 인사말을 하고 있다. (사진=SK하이닉스)
착공 이후, 공사비만 3조5,000억원(장비 구매 비용 제외)이다. 건축 면적은 5만 7000㎡로, 축구장 8개 크기다. 길이는 336m에, 폭은 163m로, 아파트 37층 규모다. 2018년 11월 착공한 이후, 연간 334만명이 투입, 25개월만에 완성된 SK하이닉스의 국내외 최대 반도체 전진기지다. 1일 경기도 이천에서 준공식과 함게 웅장함을 드러낸 SK하이닉스의 최첨단 반도체 공장인 'M16'의 모습이다. SK하이닉스는 이 곳에서 본격적인 차세대 D램 반도체 생산에 들어갈 계획이다. 특히 M16에는 SK하이닉스 최초로 반도체 미세공정의 핵심 기술인 극자외선(EUV) 노광 장비가 도입됐다. SK하이닉스는 올 하반기부터 M16공장에서 '4세대 10나노급(1a) D램'을 양산할 방침이다.
M16 전경
EUV 공정은 반도체 포토 공정에서 극자외선 파장의 광원을 사용하는 것으로, 기존 불화아르곤(ArF)의 광원보다 파장의 길이가 10분의 1 미만으로 짧기 때문에 반도체 미세 회로 패턴 구현시 유리하고 성능과 생산성까지 높일 수 있다. 앞서 미국의 마이크론은 지난해 말 4세대 10나노급 D램 생산에 성공했다고 발표한 바 있다. 다만 마이크론은 EUV 공정이 아닌 기존 불화아르곤 공정을 도입한 것으로 알려졌다. SK하이닉스는 최첨단 인프라를 기반으로 이 공장을 차세대 성장동력으로 키워낼 계획이다.
SK하이닉스의 M16 공장 가동으로 메모리 반도체 업계에는 미세공정을 적용한 차세대 D램 생산 경쟁이 더욱 치열해질 전망이다. 삼성전자는 지난해 3월 1세대 10나노급(1x) DDR4에 EUV 공정을 시범 적용해 고객 평가를 마쳤고 올해 하반기 선보일 차세대 D램인 DDR5와 모바일용 LPDDR5부터 EUV 장비로 양산에 들어갈 예정이다.
최태원 SK회장은 이날 준공식에서 "반도체 경기가 하락세를 그리던 2년 전, 우리가 M16을 짓는다고 했을 때 우려의 목소리가 컸다"면서 "하지만 지금 반도체 업사이클 얘기가 나오고 있는 만큼 어려운 시기에 내린 과감한 결단이 더 큰 미래를 꿈꿀 수 있게 했다"고 말했다.
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