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파운드리 투자 11일 만에… 삼성, 낸드 라인에 8조 또 투자

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파운드리 투자 11일 만에… 삼성, 낸드 라인에 8조 또 투자

입력
2020.06.01 11:05
17면
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메모리 수요 급증 대비 선제적 투입‘초격차 유지’

반도체 생산라인 구축 공사에 한창인 삼성전자 평택사업장 P2라인. 삼성전자는 지난달 21일 9조원 규모의 파운드리 라인 투자에 이어 1일 8조원 안팎의 최첨단 낸드플래시 생산시설 투자에 나섰다고 밝혔다. 삼성전자 제공
반도체 생산라인 구축 공사에 한창인 삼성전자 평택사업장 P2라인. 삼성전자는 지난달 21일 9조원 규모의 파운드리 라인 투자에 이어 1일 8조원 안팎의 최첨단 낸드플래시 생산시설 투자에 나섰다고 밝혔다. 삼성전자 제공

삼성전자가 경기 평택사업장에 최첨단 낸드플래시 메모리 반도체 생산라인 투자에 착수했다. 같은 사업장에 극자외선(EUV) 파운드리(반도체 위탁생산) 라인 구축 계획을 밝힌 지 11일 만에 나온 대규모 반도체 설비투자 계획으로, 업계에선 8조원 안팎이 투입될 것으로 보고 있다.

삼성전자의 이번 결정은 인공지능(AI)과 5세대(5G) 통신 확산, ‘언택트(비대면) 경제’ 부흥으로 메모리반도체 수요 급증이 예상된 상황에서 선제적 투자에 힘입어 ‘초격차’를 유지하겠다는 전략으로 풀이된다. 이재용 삼성전자 부회장 역시 검찰 수사와 재판 와중에도 잇단 대규모 투자를 단행하면서 회사의 경영 비전을 분명히 했다는 평가가 나온다.

삼성전자는 1일 평택사업장의 신설 반도체 공장(P2라인)에 낸드플래시 생산을 위한 클린룸 공사에 착수했다고 밝혔다. 내년 하반기부터 이곳에서 최첨단 V낸드 제품을 양산한다는 게 회사 목표다. V낸드는 반도체 셀(cell)을 수직으로 쌓아 올려 집적도를 높인 제품으로, 삼성전자는 지난해 셀을 100단 이상 쌓는 6세대 V낸드를 세계 최초로 출시했다.

앞서 삼성전자는 지난달 21일 평택 P2라인에 EUV 초미세공정 기반의 파운드리(반도체 수탁생산) 생산시설을 구축한다고 발표했다. 파운드리 라인 조성에 9조원대 투자가 점쳐진 점을 감안하면, 열흘 새 총 10조원대 후반의 투자 계획이 발표된 셈이다. P2라인에는 회사의 또 다른 메모리반도체 주력 상품인 D램 생산시설도 갖춰질 예정이어서 전체 투자액은 30조원 수준이 될 것이란 전망이 나온다.

삼성전자 관계자는 투자 결정 배경에 대해 “AI, IoT(사물인터넷) 등의 4차 산업혁명 도래와 5G 보급에 따른 중장기 낸드 수요 확대에 대응하기 위한 것”이라고 설명했다. 낸드플래시는 휴대폰, 휴대형 저장장치(USB), 솔리드스테이트드라이브(SSD) 등에 내장돼 데이터 저장공간 역할을 하는 칩으로, 삼성전자가 세계 1위 시장점유율(지난해 기준 35.9%, 시장조사기관 옴디아)을 차지하고 있다.

업계에선 특히 신종 코로나바이러스 감염증(코로나19)발 언택트 경제 확대로 데이터센터 증설 수요가 높아지면서 낸드플래시 시장도 확대될 것이란 전망을 내놓고 있다. 미래에셋대우에 따르면 낸드플래시 공급량(메모리 용량 기준)은 올해 29.0%, 내년 40.3% 각각 증가(전년 대비)하며 호황을 보일 것으로 예상된다. 최철 삼성전자 메모리사업부 전략마케팅실 부사장은 “이번 투자는 불확실한 환경에도 메모리 초격차를 더욱 확대하기 위한 노력이다”라고 말했다.

재계에선 코로나19 사태, 미중 무역분쟁 등의 악재로 시장 불확실성이 증폭된 상황에서 수조원대 신규 투자 결정을 이어가고 있는 이 부회장의 행보에 주목하고 있다. 특히 반도체 업계에선 2015년 30조원 규모의 평택사업장 P1라인 신설 투자를 단행해 이른바 ‘반도체 슈퍼사이클’(2016~18년) 시기에 창사 이래 최대 호황을 이끌었던 이 부회장의 ‘안목’이 이번에도 통할지 주목하고 있다. 재계 관계자는 “대다수 기업들이 전대미문의 불확실성을 이유로 투자를 주저하는 상황에서 삼성은 선제적 결단으로 미래 기회 선점에 나선 것으로 보인다”고 말했다.

이훈성 기자 hs0213@hankookilbo.com

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