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한ㆍ중출원 동일발명 양국 심사관이 함께 심사
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한ㆍ중출원 동일발명 양국 심사관이 함께 심사

입력
2017.11.19 13:00
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성윤모(왼쪽) 특허청장이 션창위 중국 국가지식산권국장과 17일 저장성 항저우에서 특허공동심사사업에 관한 양해각서를 체결한 후 악수를 하고 있다. 특허청 제공
성윤모(왼쪽) 특허청장이 션창위 중국 국가지식산권국장과 17일 저장성 항저우에서 특허공동심사사업에 관한 양해각서를 체결한 후 악수를 하고 있다. 특허청 제공

한국과 중국이 두 나라에 출원된 동일 발명에 대해 양국 심사관이 함께 심사하는 ‘특허 공동심사 사업(CSP)’을 추진한다.

19일 특허청에 따르면 중국을 방문한 성윤모청장이 17일 중국 저장성 항저우에서 션창위 중국 국가지식산권국장과 CSP사업에 대한 양해각서(MOU)를 체결했다. 이번 양해각서는 한ㆍ중 중앙정부 부처간 처음 체결된 것으로, 사드배치 문제로 경색됐던 양국관계 개선사례로 해석되고 있다. 또 중국이 처음으로 CSP사업에 참여하면서 한국과 손을 잡았다는 데 의의가 있다고 특허청은 설명했다. 현재 CSP사업은 한-미, 미-일 2개만 운영되고 있다.

한ㆍ중 특허청은 또 디자인 우선권 서류의 전자적 교환을 조속히 추진하는 방안에도 합의했다. 이는 한국 출원인이 중국에 디자인을 출원할 때나 그 반대의 경우 제출해야 하는 우선권 서류를 양국 특허청이 전자적으로 교환하는 것으로, 서류 제출에 따른 비용과 부담이 크게 절감될 것으로 기대된다. 지난해 한국의 중국내 출원 디자인건수는 2,135건에 이르며, 아직까지 국가간에 디자인 우선권 서류를 전자적으로 교환한 사례는 없는 실정이다.

양국 특허청은 중국이 추진중인 디자인 심사역량 강화, 디자인 분류체계 개발 등에 한국이 적극 협조하기로 하는 등 디자인 분야에서도 협력을 더욱 강화하기로 했다.

성 청장은 “중국이 세계 최대시장이자 지식재산권 최다출원국가라는 점에서 이번에 합의된 양국간 지재권 획득절차 간소화 조치 등은 중국 진출 우리 기업과 국민들에게 적지않은 편익을 가져다 줄 것”이라며 “지재권 국제무대에서 입지를 강화하고 있는 한국과 중국의 협력 증진은 지재권 분야 국제규범 형성을 선도해 나가는 데 있어 양국 모두에게 도움이 될 것”이라고 말했다.

허택회 기자 thheo@hankookilbo.com

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