하이닉스, 내년 2조 3000억 시설투자

하이닉스반도체(이하 하이닉스)는 내년에 해외법인 분을 포함해 총 2조3,000억원의 시설투자를 계획하고 있다고 24일 밝혔다. 이는 올해 시설투자에 사용된 1조원에 비해 1조3,000억원이 늘어난 규모다.

하이닉스 관계자는 "내년에는 D램, 낸드플래시 등 주력 제품의 공정 고도화와 생산력 확충에 집중적으로 투자할 계획"이라고 말했다.

앞서 하이닉스 주주관리협의회 주관기관인 외환은행은 20일 하이닉스가 내년에는 자체적인 현금 창출을 통해 약 1조원의 차입금을 상환하고도 2조3,000억원의 투자를 집행할 수 있을 것이라고 밝힌 바 있다.

허재경 기자 ricky@hk.co.kr