원자층 증착기술 개발

테라급의 고집적 나노소자를 만들 때 원자 두께만큼 얇은 막을 쌓을 수 있는 기술이 개발됐다. 한양대 신소재공학과 전형탁 교수팀은 23일“‘원거리 플라즈마 원자층 증착기술(ALD)’을 개발했으며 이 기술로 고집적 나노소자에 손상 없이 박막을 쌓을 수 있음을 확인했다”고 밝혔다.

전 교수팀이 개발한 방법은 플라즈마와 기판 간격이 멀리 떨어져 있어 플라즈마 이온에 의한 손상을 줄인 것으로, 기존의 ADL기술과 달리 차세대 나노소자 재료에도 적용할 수 있다.

김희원 기자 hee@hk.co.kr