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美텍사스 반도체공장 증설 삼성전자 5억弗 투자
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美텍사스 반도체공장 증설 삼성전자 5억弗 투자

입력
2003.05.05 00:00
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삼성전자가 미국 텍사스주 오스틴 반도체공장의 설비 확장과 보강 등을 위해 2005년까지 3년간 5억 달러를 투자한다. 삼성전자는 3일(한국시간) 미 오스틴에서 조지 부시 전 대통령을 비롯, 릭 페리 텍사스 주지사, 이윤우 반도체 총괄 사장 등이 참석한 가운데 투자기념식을 갖고 이 같은 내용을 골자로 한 '나노테크 3개년 투자계획'을 발표했다.삼성은 나노테크놀로지 기술도입을 목표로 추진되는 이번 투자계획에서 1단계로 올해 안에 1억2,700만달러를 투자, 웨이퍼 당 칩수를 현재보다 40% 가량 많이 생산할 수 있는 최첨단 생산공정을 갖출 계획이다.

이윤우 사장은 "이번 투자는 반도체 경기가 내년과 2005년에는 회복세를 나타낼 것으로 내다보고 미리 대비하기 위한 전략에서 비롯됐다"고 밝혔다.

/박천호기자 toto@hk.co.kr

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