삼성전자가 메모리와 비메모리사업의 종합발전을 위한 반도체제 2공단 조성에 본격 착수했다.삼성전자는 16일 반도체총괄 이윤우(李潤雨)사장이 참석한 가운데 경기 화성군에 2005년까지 30만평규모의 대규모 반도체단지를 조성키로하고 1단계로 제10라인 공장 상량식을 가졌다.
이사장은 이날 발표한 뉴밀레니엄전략을 통해 『내년에 총20억달러 규모의 설비투자와 6억달러의 연구개발비를 투자, 반도체부문매출을 올해의 93억달러보다 15%이상 성장시킬 계획』이라고 밝혔다.
총 18억달러를 투자, 내년말 완공예정인 제10라인은 128·256메가D램, 램버스D램 등 차세대반도체 전용라인으로 월 1만6,000매의 8인치 웨이퍼를 가공할 수 있는 규모다.
이평수기자
pyong@hk.co.kr
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